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研究設備

令和 5 年 12 月 18 日における主要研究設備の一覧を以下に示します.これらの装置は全て,共同利用で使用可能です.

高温高圧実験装置

X 線分析装置および電子顕微鏡

  • 粉末 X 線回折装置
  • 微小部 X 線回折装置
  • 蛍光 X 線分析装置 PANalytical Axios Advanced
  • 電子プローブマイクロアナライザー JXA-8800
  • 電界放出型電子プローブアナライザー JXA-8530F
  • 低真空電界放出型走査型電子顕微鏡装置 JSM-7001F (EDS 分析装置 付)
  • 走査型電子顕微鏡装置 JSM-7001F (EDS, EBSD 分析装置 付)
  • 透過電子顕微鏡装置 JEM-7001F (EDS・EELS 付)
  • 軟 X 線分光器付電界放出型電子プローブアナライザー JXA-8530F & SXES

質量分析装置

  • マルチコレクション誘導結合プラズマ質量分析 Thermo Fisher Scientific NEPTUNE plus
  • 高分解能型誘導結合プラズマ質量分析計 Thermo Fisher Scientific Element XR
  • 誘導結合プラズマ質量分析計 Thermo Fisher Scientific iCAP TQ
  • 誘導結合プラズマ質量分析計 Thermo Fisher Scientific iCAP-Qs
  • 高感度表面電離型質量分析装置 Thermo Fisher Scientific TRITON & TRITON plus (3 式)
  • 高分解能型二次イオン質量分析装置 Cameca IMS-1280HR
  • 安定同位体比測定用質量分析装置 Thermo Fisher Scientific MAT253
  • 希ガス測定用質量分析装置 Micromass VG 5400
  • 希ガス測定用質量分析装置 Thermo Fisher Scientific Helix SFT
  • フーリエ変換電場型有機質量分析装置 Thermo Fisher Scientific Orbitrap Fusion
  • シングル四重極 GC-MS システム Thermo Fisher Scientific TRACE 1310 & ISQ 7000

分光分析装置

  • 多核核磁気共鳴装置 Bruker Avance NEO 400MHz
  • 顕微ラマンスペクトロメーター
  • テラヘルツ顕微ラマンスペクトロメーター
  • 近赤外顕微ラマンスペクトロメーター
  • 顕微ルビー蛍光圧力測定装置
  • 顕微フーリエ変換赤外スペクトロメーター
  • 全真空型顕微フーリエ変換赤外スペクトロメーター
  • 原子吸光分光スペクトロメーター Shimadzu AA-6200

その他の分析・実験装置

  • 複合集束ビーム試料加工装置 JIB-4500
  • イオンクロマトグラフ Metrohm Compact IC 761
  • 赤外線レーザー加工機
  • 紫外線レーザー加工機
  • インピーダンスアナライザ
  • スパッタリング装置
  • ワイヤーカット放電加工機
  • ドライ/低損失切削用ダイヤモンドワイヤソー
  • 超高速液体クロマトグラム Thermo Fisher Scientific Vanquish
  • 熱分解型元素分析計 Thermo Fisher Scientific TC/EA
  • 燃焼型元素分析計 Thermo Fisher Scientific Flash 2000
  • GC 前処理装置 Thermo Fisher Scientific TRACE GC Ultra & GC IsoLink
  • レーザーフッ化システム

    六軸加圧式川井型超高圧発生装置 6UHP

    6方向から立方体空間を、油圧+モーターによる制御で加圧するユニークな装置です。最高圧力として120GPaを目指しています。

    一軸加圧式川井型超高圧発生装置 USSA-1000

    一辺60 mmの立方体空間を1000トンの荷重まで加圧できる一段目アンビルを備えており、1mm程度の試料を25 GPa程度の圧力まで加圧することができます。

    D111型変形機能付マルチアンビル装置

    川井型セルによる高温高圧下での変形実験ができる装置で、マントルや核のレオロジー研究に用いられます。

    走査型電子顕微鏡装置 JSM-7001F (EDS, EBSD 分析装置 付)

    化学組成分析や結晶方位測定機能を備えた電子顕微鏡で、微細試料の観察等に用いられます。

    紫外線レーザー加工機

    355 nmの紫外領域の波長を持つレーザー光を利用した加工機です。セラミクスや金属の微細加工に用いられます。

    スパッタリング装置

    同時に3つのターゲットを利用できる汎用性の高い成膜装置で、複雑な組成の成膜が可能です。

    ワイヤーカット放電加工機

    導電性物質を放電加工によって2.5次元加工できる装置で、治具の作製や実験部品の作製に用いられます。

履歴

平成 27 年 4 月 1 日における主要研究設備の一覧をここに示します.

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